电解抛光（Electro Polishing）
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电解抛光是以被抛光工件为阳极，电极板为阴极，两极同时浸入电解槽中通以直流电而产生电化学溶解的过程。电解抛光反应过程如图1所示：
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电解抛光原理
电解抛光时金属表面形成高粘度液层，即粘膜层，金属离子的相互迁移正是通过这层高电阻粘膜层进行的。对于金属表面的凹凸部分，由于覆盖在凸部的粘膜层较薄，而覆盖在凹部的粘膜层较厚，因此，
金属凸部的离子移动距离较短，抵抗较小，溶解速度快；与凸部相比，凹部的反应抵抗较大，溶解速度慢。通过电解抛光，金属表面变得平滑且生成了均匀的氧化膜。
其原理参照图2-1，2-2，2-3所示：
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抛光金属侧接正极，对极端电极接负极，通以直流电，在电解液中产生电流。
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通电数秒后抛光金属侧生成厚度约10um的初期氧化物，即粘膜层 （），粘膜层的电阻大概是电解液的1400倍。这时，电解液的电阻几乎可以忽略不计。电流通过粘膜层较薄部分（A部）时，因电阻较小，抛光金属溶解速度较快：而电流通过粘膜层较厚部分（B部）时，因电阻较大，溶解速度较慢。
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因溶解速度的不同，抛光金属逐渐平坦化。同时，在抛光金属表面形成均匀、致密、坚固的氧化膜（）。至此，达到电解拋光的平坦化、耐腐蚀性等性能。
电解抛光作业流程
电解抛光前后对比
电解抛光的目的
● 提升性能
不锈钢中铬的浓缩和氧化膜的生成
通过电解抛光，不锈钢中的铁成分优先溶解，从而使铬得以浓缩，最初约18%的铬浓度最终浓缩至60%以上。
同时铁和铬完全氧化并生成2-5nm的氧化膜，有效抑制金属离子的析出以及提高了耐腐蚀性。
| 测试项目1:铬铁比和铬氧铁氧比 | ||
| 设备名称 | XPS | |
| 设备型号 | PHI-5000Versa-ProbeⅢ | |
| 设备编号 | SA-211 | |
| 测试样品 | 进口316L | |
| 环境条件 | 温度：22°C；湿度：50%RH | |
| 参考标准 | SEMI F60 | |
| 测试条件 | 分析区域：直径200µm；信息深度：约5nm；元素的原子百分比检测下限：0.1%；测试真空度：1.2x10-6Pa | |
| 测试样品图片 |  |
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| 测试结果 | ||
| 测试项目 | 测试结果 | 图谱：样品的XPS全谱 |
| Cr/Fe | 1.69 |  |
| Cr-O/Fe-O | 2.89 | |
| 测试项目2:AES深度剖析结果 | |||
| 项目 | 单位 | 测试结果 | 图谱：AES测试照片 |
| 氧化层厚度 | （Å） | 33.3 |  |
| 修正过的氧化层厚度** | （Å） | 28.2 | |
| 单独的铁氧化物厚度 | （Å） | NA | |
| 深度10Å处的Cr/Fe比* | / | 0.96 | |
| 最大Cr/Fe比 | / | 1.12 | |
| （对应的深度） | / | 10.7 | |
| C层厚度 | （Å） | 5.1 | |
去除肉眼无法看到的微小污垢
通过电解抛光，可以彻底清除表面污垢。不仅是肉眼可见的污垢，甚至是肉眼无法看到的微小污垢，或者通过普通清洗难以去除的污垢，也可以通过电解抛光的溶解作用完全清除，从而获得洁净的表面。此外，由于表面粗糙度降低，不仅不易附着污垢，即使有污垢附着，也更容易清洁。
电解抛光前:晶体边界处易积聚杂质，表面凹凸复杂。污垢较多，杂质残留较严重，清洁难度大。
电解抛光后:通过电解抛光的溶解作用，不纯杂质被去除，表面变得洁净且平滑。这样的表面不易附着污垢，即使附着，也易于清洗，具有高清洁性。
SUS304 2B材料电解抛光前后的SEM（扫描电子显微镜）对比
● 实现美观
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物理抛光后进行电解抛光得到的镜面效果 -
实现镜面效果
通常情况下，镜面化效果需要结合物理抛光和电解抛光来实现。严格来说，仅通过浸泡式的电解抛光无法实现真正的镜面效果，只能达到光亮的效果。所谓镜面化处理，一般是以物理抛光作为前处理的基础。
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去除毛刺
如果是小毛刺，可以通过电解抛光使其变得光滑。然而，对于较大的毛刺，则需要长时间通电处理。考虑到过度电解可能带来的问题以及成本问题，建议仅在无法使用电解抛光以外方法时再考虑此方案。此外，针对铝材还可以通过化学抛光去除毛刺。
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放大500倍后照片（电解抛光前） -
放大500倍后照片（电解抛光后）
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处理前 -
处理后 -
去除焊疤
通过浸泡电解抛光并不一定能够完全去除焊疤，因此通常需要结合酸洗处理来去除焊接烧痕。焊接后表面有时会变黑并出现类似碳化的现象，这种情况仅仅靠电解抛光或酸洗都无法去除，只能通过物理抛光来清除。此外，如果焊接时表面沾有油污，会导致烧痕，这种烧痕无法通过电解抛光去除，酸洗也很难处理，即使勉强去除，也可能因过度酸洗导致表面粗糙。因此，针对油污烧痕，也只能通过物理抛光来解决。
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提升外观美感以增加产品价值
通过电解抛光，可以清除表面污垢，使表面更加洁净。不仅能去除肉眼可见的污垢，还能去除普通清洗难以清除的微小污垢，从而形成干净的表面。经过处理后，表面不易附着污垢，即使有污垢附着，也更容易清洁。
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电解抛光前 -
电解抛光后
● 处理物理抛光难以到达的部位
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外壳内表面（角落处） -
管道内表面 -
电解抛光通常能够处理物理抛光难以触及的区域。
除上述提升性能 · 实现美观 · 处理物理抛光难以到达的部位的主要目的外，电解抛光还可实现降低工件表面积、改善表面粗糙度等，在此不做全部列举。
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